模版

安徽首片光刻掩模版成功亮相，供应覆盖28纳米至150纳米范围的掩模版服务

安徽首片光刻掩模版成功亮相，供应覆盖28纳米至150纳米范围的掩模版服务

chenlijuan 新闻 2024-07-23 阅读(3047) 评论(540)

　　7月23日，据“合肥发布”官微发文，由晶合集成生产的安徽省首片半导体光刻掩模版成功亮相，不仅填补了安徽省在该领域的空白，进一步提升本土半导体产业…